在 Sputtering(溅射)系统中,洁净且稳定的真空环境对于薄膜沉积质量和设备性能非常重要。水蒸气以及其他不需要的气体成分可能影响真空状态。因此,ULVAC推出 CRYO-T8SFA-EA Cryo Super Trap(超低温冷阱),用于高性能真空系统。

该冷阱可与 ENTRON-EXX 系统集成,并支持自动再生和优化能源消耗。凭借这些功能,CRYO-T8SFA-EA适用于半导体、FPD以及薄膜镀膜等应用。

1. 冷阱在Sputtering系统中发挥什么作用?

在Sputtering系统中,真空泵用于排出气体并维持合适的真空压力。然而,即使经过抽气处理,系统内部仍可能存在水蒸气和其他气体成分。

Cryo Trap(冷阱)通过将捕集表面冷却至极低温度,使适合捕集的气体分子和蒸气在表面凝结或被捕集。

因此,冷阱能够帮助维持更加洁净的真空环境,并在适当的运行条件下减轻真空泵系统的负荷。

对于半导体制造、FPD制造和薄膜镀膜等应用而言,稳定且洁净的真空环境非常重要。

2. ULVAC CRYO-T8SFA-EA——适用于Sputtering系统的冷阱解决方案

ULVAC CRYO-T8SFA-EA 可与ULVAC的 ENTRON-EXX 系统集成,为Sputtering系统提供冷阱解决方案。

 

该系统使用 Compressor Unit C100L,并集成控制和再生功能,从而减少人工操作。

对于需要连续运行和高自动化程度的Sputtering生产线而言,该设计有助于简化设备运行和管理。

3. Cryo Super Trap CRYO-T8SFA-EA的主要特点

3.1 直接集成ENTRON-EXX系统

CRYO-T8SFA-EA可直接与 ENTRON-EXX 系统集成。

这种集成方式有助于简化设备之间的控制和通信,并支持Sputtering系统的自动化运行。

3.2 自动再生功能

CRYO-T8SFA-EA配备集成式再生控制箱,并可通过ENTRON-EXX实现自动再生控制。

该功能可以:

对于需要连续运行的Sputtering生产线,自动再生能够进一步简化设备维护和运行管理。

3.3 Multi-Pump Operation多泵运行

CRYO-T8SFA-EA支持 Multi-Pump Operation(多泵运行)。

该功能适用于配备多个真空腔体或多个真空泵的系统,并有助于实现更加稳定的真空运行和设备同步控制。

因此,该设计特别适合需要多个真空处理单元的生产线。

3.4 Inverter变频技术优化能源消耗

压缩机在不同运行条件下所需的工作负载并不相同。因此,CRYO-T8SFA-EA采用 Inverter变频技术,根据运行需求调节压缩机运行状态。

这种设计有助于优化电力消耗,并降低长期运行成本。

对于半导体工厂等需要长时间连续运行的生产环境而言,优化能源使用对于提高生产效率和设备运行经济性具有重要意义。

3.5 集成式设计,简化设备连接

CRYO-T8SFA-EA采用集成式设计,并集成再生单元。

这种设计可以减少电缆连接数量,并降低通信连接的复杂程度。同时,设备布局更加简洁,有助于简化系统集成和设备安装。

4. ULVAC冷阱为Sputtering系统带来哪些优势?

将ULVAC Cryogenic Trap应用于Sputtering系统,可以为真空运行提供多方面支持:

保持洁净的真空环境

冷阱可以捕集适合的水蒸气和气体成分,从而帮助维持更加洁净的真空环境。

减轻真空泵系统负荷

在适当的运行条件下,冷阱可以捕集部分气体成分,从而帮助降低真空泵系统的负荷。

支持稳定的薄膜沉积

稳定且洁净的真空环境有助于Sputtering薄膜沉积过程的稳定运行。

通过自动再生减少停机时间

CRYO-T8SFA-EA与ENTRON-EXX集成,并支持自动再生,有助于减少人工操作和设备维护过程中的停机时间。

5. CRYO-T8SFA-EA适用于哪些应用?

ULVAC CRYO-T8SFA-EA适用于多种需要高性能真空环境的应用,包括:

凭借自动再生、多泵运行和变频技术,CRYO-T8SFA-EA可以满足不同真空生产系统的运行需求。

6. ULVAC CRYO-T8SFA-EA主要规格

项目 规格
型号 CRYO-T8SFA-EA
设备类型 Cryo Super Trap / Cryogenic Trap
压缩机单元 C100L
集成系统 ENTRON-EXX
再生方式 自动再生
运行方式 Multi-Pump Operation多泵运行
节能技术 Inverter变频系统
设计 集成式再生单元
认证 CE、UL、SEMI-F47

ULVAC Vietnam——面向Sputtering和半导体应用的真空解决方案

ULVAC Vietnam提供面向半导体制造、Sputtering溅射、真空镀膜和薄膜沉积等领域的真空设备与技术解决方案。

主要产品和服务包括:

ULVAC Vietnam致力于为越南半导体、电子、薄膜镀膜及其他工业制造领域提供真空设备和技术服务。

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我们可以根据您的真空系统、生产工艺和设备运行需求,为您提供相应的真空设备、系统解决方案以及安装、维护和Overhaul服务。