真空设备

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ULVAC 以真空技术为核心，融合相关周边技术，经过多年的研发与制造技术改进，现已能够提供广泛的工业制造设备，涵盖半导体、电子零部件、平板显示器（FPD）、太阳能电池等多个领域。

真空炉系统

ULVAC 提供多种类型的真空炉设备（用于熔炼、热处理及化学气相沉积 CVD），
广泛应用于一般工业领域以及半导体与电子器件制造领域。

真空蒸发系统

该设备采用垂直双开门结构，
用于在汽车照明部件及装饰用反射板上沉积铝反射膜，并叠加沉积 SIOx 保护膜。
可对 PC、BMC、ABS 等金属材料进行薄膜金属化处理。

冷媒充注机

充注机是实现高精度与高速充注的理想解决方案，
融合多项优势与先进技术，性能卓越，效率出众。

液氮发生器

使用我们的液氮发生器，您可以“自制”液氮（LN₂），无需外购，这不仅带来极大的便利，还能确保液氮供应的稳定性，并具备诸多其他优势。通过将液氮发生器直接连接至您的液氮冷却低温储存装置，即可实现液氮的持续供应。

自动氦气检漏系统

ULVAC 提供的检漏仪不仅适用于真空系统的泄漏测试，
还广泛应用于其他领域，包括包装密封性检测以及特殊气体泄漏的检测。

真空卷式镀膜机

卷式镀膜机适用于多种应用，
包括金/银线材镀膜、防伪用全息镀膜，以及柔性基材的涂层处理。

真空蒸馏系统

真空蒸馏系统，可在低温和短时间内于真空环境下进行蒸馏处理，
适用于对热高度敏感的物质（易热分解或聚合的物质）。

真空冷冻干燥系统

用于低产量生产及制药行业研究的真空冷冻干燥 / 真空干燥系统，
需要节省空间的设计、低成本以及高功能性。
ULVAC 推出了 DFM 系列，以满足这些需求。

真空冷却系统

真空冷却技术的应用，在绿叶蔬菜冷链配送系统中引发了一场革命。
在夏季，高温环境下，蔬菜在采收后极易迅速变质。

真空溅射系统

ULVAC 的溅射系统在业内拥有最卓越的业绩记录。

灰化系统

ULVAC 提供环保型（无需使用化学溶液）、高生产效率的光刻胶去除技术，
该技术在电子与半导体器件的生产过程中至关重要。

刻蚀系统

ULVAC 提供的刻蚀系统可满足各种难以刻蚀材料的需求，涵盖新型非易失性存储器及复合半导体等应用。

化学气相沉积系统

ULVAC 提供集群式与批量式化学气相沉积系统，
并提供专为研发设计的设备，涵盖从用于非晶硅（a-Si）和钝化膜沉积的 PE-CVD 系统，到金属 CVD 与热 CVD 系统等多种类型。

离子注入系统

用于半导体器件的高性能离子注入系统系列。

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冷媒充注机

液氮发生器

自动氦气检漏系统

真空卷式镀膜机

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真空冷冻干燥系统

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