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干式刻蚀设备 APIOS NE-950EX

APIOS NE-950EX ETCHING
LED 大规模量产干式刻蚀设备 NE-950EX

特点

  • 可同时处理以下批量:

    • 6 英寸晶圆:3 片

    • 4 英寸晶圆:7 片

    • 3 英寸晶圆:12 片

    • 2 英寸晶圆:29 片

  • 配备带磁场的 ICP(ISM*1),这种高密度等离子源在化合物半导体市场已有超过 600 台的交付实绩。
    *1:ULVAC 专利号 3188353
  • 配备具有自清洁功能的 Star 电极*2,可去除来自 RF 窗口的沉积物。
    *2:ULVAC 专利号 3429391
  • 通过防再沉积设计,实现高维护性、稳定性与可靠性。

  • 提供适用于多种工艺应用的干式刻蚀技术(GaN、蓝宝石、金属、ITO、SiC、AlN、ZnO、四元化合物半导体材料等)。

  • 可提供多种选配功能。

应用

  • 用于 LED 产品的 GaN、蓝宝石、金属、ITO 等材料的干式刻蚀