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研发用干式刻蚀系统 NLD-570

NLD-570 ETCHING
采用 ULVAC 原创 NLD(中性环放电)等离子源的干式刻蚀系统。

特点

  • 低工艺压力、高密度等离子体及低电子温度,非常适用于石英玻璃、Pyrex、LN、LT 等材料。
  • 具备优异的轮廓控制和表面粗糙度性能。
  • 在使用光刻胶(PR)条件下可实现高性能的深 SiO₂ 刻蚀。
  • 石英刻蚀速率可达 >1 μm/min,Pyrex 可达 >0.8 μm/min。
  • 具备出色的均匀性控制能力。
  • 可选配晶圆盒式腔体(Cassette chamber)。

应用

  • 光学器件(波导、放大器、光开关等)、微透镜、光子学、微全分析系统(μ-TAS)等。