真空溅射沉积系统

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SV 系列

立式批量式溅射系统。该系列型号包括用于光盘母盘制作的 SV-200 机型，以及适用于大批量基板加工的旋转塔式机型。

SX 系列

批量式溅射系统 SX 系列
SX 系列是用于研究开发和小规模生产应用的批量式溅射系统。

ENTRONTM-EX W300

ENTRONTM-EX 可将 PVD、CVD、ALD 等多种先进工艺进行组合，并实现简洁而高可靠性的原位（In-Situ）制程。

MLXTM-3000N

MLXTM-3000N 以卓越的工艺灵活性与可控性，以及出色的成本性能，满足客户的复杂需求。

ULDiS 系列

ULDiS 系列是数字式溅射系统，强化了 Meta Mode 技术，实现了高品质的光学滤光片和镀膜。
ULVAC 已与美国 JDS Uniphase Corporation 签署许可协议，获准在光学领域使用 MetaMode® 溅射技术。
ULDiS 系统可导入至客户生产现场，并广泛推广应用。

SRH 系列

SRH 系列是一种用于功率器件、晶圆级封装 (WL-CSP)、UBM 等类似应用的金属薄膜沉积生产系统。

SME-200E

SME-200E 是用于研发和生产用途的簇式溅射系统。

CS-200

CS 200 负载锁式溅射系统适用于研发和小规模生产应用。

ACS-4000

紧凑型溅射系统适用于多层薄膜、复合材料或其他器件的研发，并通过电脑实现自动化工艺操作。此外，该系统还支持比以往更大尺寸的基板（直径 4 英寸）。

CS-L

可根据需求配置多种模块组合：大气式卡匣、单片式工位、大气传送模块、真空传送模块。
系统为紧凑型设计，并与控制单元一体化集成。

uGmni-200, 300

uGmni 可在同一传送核心上配置多种不同的工艺模块，通过尽可能采用通用部件来减少备品备件的数量，并且不同模块之间可共用同一操作面板，从而提升使用便利性。这一设计大幅提高了先进电子器件制造过程的生产效率。

SMD 系列

SMD 系列是用于沉积金属膜、ITO 膜等薄膜的单片式溅射系统。
ULVAC 已向各类生产环境交付了大量此类设备，应用范围广泛。
ULVAC 能够根据生产现场的反馈迅速作出响应，不断提升该系列机型的可靠性。

SCH 系列

SCH 系列是卧式直线式溅射系统，用于沉积透明导电膜及其他金属薄膜。
该系列设备可用于太阳能电池生产线中背电极膜和阻挡层等薄膜的沉积。

SPW 系列

SPW 系列设备可在塑料薄膜上进行光学薄膜、金属等多层膜的溅射沉积。
该系列采用气体分离腔结构，用于高功能多层薄膜的批量加工。

真空溅射沉积系统

SV 系列

SX 系列

ENTRONTM-EX W300

MLXTM-3000N

ULDiS 系列

SRH 系列

SME-200E

CS-200

ACS-4000

CS-L

uGmni-200, 300

SMD 系列

SCH 系列

SPW 系列

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