干式刻蚀设备 APIOS NE-950EX
LED 大规模量产干式刻蚀设备 NE-950EX
特点
可同时处理以下批量：
6 英寸晶圆：3 片
4 英寸晶圆：7 片
3 英寸晶圆：12 片
2 英寸晶圆：29 片
- 配备带磁场的 ICP（ISM*1），这种高密度等离子源在化合物半导体市场已有超过 600 台的交付实绩。
*1：ULVAC 专利号 3188353 - 配备具有自清洁功能的 Star 电极*2，可去除来自 RF 窗口的沉积物。
*2：ULVAC 专利号 3429391 通过防再沉积设计，实现高维护性、稳定性与可靠性。
提供适用于多种工艺应用的干式刻蚀技术（GaN、蓝宝石、金属、ITO、SiC、AlN、ZnO、四元化合物半导体材料等）。
可提供多种选配功能。
应用
- 用于 LED 产品的 GaN、蓝宝石、金属、ITO 等材料的干式刻蚀
关注我们
Zalo
ZALO 0988248567
Line Add
联系我们
ULVAC Vietnam Representative Office
29/11/100 Le Duc Tho Street, Ward 7, Go Vap District Ho Chi Minh City, Vietnam
5/5/42 Thanh Binh Street, Hai Duong Province, Vietnam