中电流离子注入机 SOPHI-200/260
该设备（SOPHI-200/260）基本沿用现有的中电流量产型离子注入机，并根据我们作为设备供应商的丰富经验，去除了过度规格。因此，通过有效的成本削减，我们能够在具备平行扫描功能的同时，以较低的销售价格提供设备。
特点
适用于 5～8 英寸晶圆
设备结构紧凑且重量轻
平行离子束性能优异
在能量控制和金属污染方面表现出色
适用于超薄晶圆
应用
- 半导体生产
- 超薄晶圆工艺（如功率器件等）
- 研发用途
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