ULVAC Vietnam Representative Office
옵토 소자·MEMS용 건식 에칭 시스템 NLD-5700
ULVAC 독자 기술인 NLD(Neutral Loop Discharge) 플라즈마 소스를 적용한 생산용 건식 에칭 시스템
특징
- 2번째 챔버 옵션 선택 가능: ICP 에칭 챔버, CCP 에칭 챔버 또는 애싱 챔버 구성 가능
- 저압·고밀도·저전자온 플라즈마 적용으로 Quartz Glass, Pyrex, LN, LT 등의 소재에 적합
- 우수한 프로파일 제어 및 표면 거칠기 제어
- PR을 이용한 SiO₂ 딥 에칭 공정에서 우수한 식각 성능
- 높은 식각 속도: Quartz 1 μm/min 이상, Pyrex 0.8 μm/min 이상
- 뛰어난 공정 균일도 확보
응용 분야
- 광학 소자: 광도파로, 광증폭기, 광스위치 등
- 초소형 렌즈(Micro Lens)
- 포토닉스(Photonics)
- μ-TAS(마이크로 종합 분석 시스템)
