HỆ THỐNG ETCHING KHÔ CHO THIẾT BỊ OPTO, MEMS NLD-5700
Hệ thống Etching khô kiểu sản xuất với Nguồn Plasma NLD (Neutral Loop Discharge) nguồn gốc ULVAC.
đặc điểm
- Buồng khắc loại ICP, CCP hoặc buồng tro cũng có thể được chọn làm buồng thứ hai.
- Áp suất quy trình thấp, plasma mật độ cao, nhiệt độ điện tử thấp hoàn hảo cho thủy tinh thạch anh, Pyrex, LN, LT, v.v.
- Kiểm soát biên dạng tốt và độ nhám bề mặt.
- Hiệu suất tốt của quá trình ăn mòn SiO2 sâu với PR.
- Tốc độ khắc cao của Thạch anh> 1μm / phút, Pyrex> 0,8 μm / phút.
- Kiểm soát tính đồng nhất tuyệt vời.
ứng dụng
- Thiết bị quang học (Bộ dẫn sóng, bộ khuếch đại, công tắc quang học, v.v.), Ống kính siêu nhỏ, Quang tử, μ-TAS, v.v.
Follow us
Zalo
Line Add
Contact Us
ULVAC Vietnam Representative Office
29/11/100 Le Duc Tho Street, Ward 7, Go Vap District Ho Chi Minh City, Vietnam