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고에너지 이온 주입 시스템 SOPHI-400
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고에너지 이온 주입 시스템 SOPHI-400
고에너지 이온 주입 시스템 SOPHI-400은 클러스터형 장비로, 최대 2,400 keV의 고에너지 이온 주입을 지원합니다.
특징
클러스터형
박형 웨이퍼 대응
병렬 빔 지원
고에너지: 최대 2,400 keV
웨이퍼 크기: 최대 200 mm
응용 분야
전력 소자 및 IGBT 제조 공정
