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SOPHI-30은 질량 분석기가 없는 클러스터형 고밀도·저가속 이온 주입 시스템으로, 박형 웨이퍼 처리를 지원합니다.
SOPHI-200/260 시리즈는 기존 중간급 양산형 이온 주입 장비를 기반으로, 장비 공급업체로서 축적된 충분한 경험을 바탕으로 불필요한 사양을 최적화한 제품입니다. 이를 통해 비용을 효과적으로 절감하여 합리적인 가격을 제공하면서도 병렬 스캐닝 기능을 지원합니다.
SOPHI-400은 최대 2,400 keV의 고에너지 이온 주입이 가능한 클러스터형 이온 주입 시스템입니다.
SiC용 고온 ESC를 적용한 양산형 이온 주입 시스템