非易失性材料刻蚀设备 ULHITETM NE-7800H
ULHITETM NE-7800H 是一款集群式、低压高密度等离子刻蚀系统，适用于 NVM 材料（难刻蚀材料，用于 FeRAM、MRAM、ReRAM、CBRAM、PCRAM 等）、介电材料、贵金属以及磁性层。
特点
高温（最高至 450°C）基板电极。
降低 RF 输入窗口上介电薄膜沉积的机制。
高刻蚀速率。
Pt/Ir/磁性薄膜刻蚀的优异稳定性。
ISM™（感应式超磁控）高密度等离子源。
应用
- FeRAM、MRAM、ReRAM、CBRAM、PCRAM 等。
技术参数
| 项目 | 规格 |
| 系统配置 | 盒式腔体／自动上料机 |
| 传送腔 | |
| 刻蚀腔 | |
| 预热腔（选配） | |
| 灰化腔（选配） | |
| 支持基板尺寸 | 6／8 英寸 |
| 薄膜类型 | 铁电／高k 介电材料、磁性材料、电极材料、其他 |
| 基板内表面均匀性 | 最大 ±5% |
| 等离子源 | ISM（带磁场 ICP） |
| 基板电极温度 | 最高 400°C ±5°C |
| 防沉积措施 | 法拉第屏蔽机构、顶板加热机构、沉积屏蔽加热机构等 |
| 工艺配方编辑 | 多步骤类型 |
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