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光电器件、MEMS 用干式刻蚀系统 NLD-5700
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光电器件、MEMS 用干式刻蚀系统 NLD-5700
采用 ULVAC 原创 NLD(中性环放电)等离子源的量产型干式刻蚀系统。
特点
ICP 类型刻蚀腔体之外,也可选择 CCP 或灰化腔体作为第二腔体。
低工艺压力、高密度等离子体及低电子温度,非常适用于石英玻璃、Pyrex、LN、LT 等材料。
具备优异的轮廓控制和表面粗糙度表现。
在使用光刻胶(PR)时可实现出色的深 SiO₂ 刻蚀性能。
石英刻蚀速率可达 >1 μm/min,Pyrex 可达 >0.8 μm/min。
具备卓越的均匀性控制能力。
应用
光学器件(波导、放大器、光开关等)、微透镜、光子学、微全分析系统(μ-TAS)等。