量产用干式刻蚀系统 NE-5700／NE-7800
适用于大批量生产的干式刻蚀系统，具备优异的性价比，并可提供多样化的设备配置选择。
特点
- 除了 ICP 类型的腔体外，还可选择 NLD 等离子刻蚀腔体、灰化腔体或 CCP 腔体。
- 借助 STAR 电极（ULVAC 专利）和多种温控功能，可实现优异的工艺重复性与稳定性。
- 由于维护结构简单，可大幅减少停机时间。
- 由 ULVAC 半导体与电子技术研究所提供全方位工艺支持。
应用
- 化合物半导体（LED、LD 及 RF 器件）、功率器件（IGBT、SiC）
- 金属、介电材料、高分子、栅电极刻蚀
- 铁电材料、贵金属刻蚀
- 铁磁性材料刻蚀
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