高密度等离子刻蚀系统（研发用）NE-550EX
NE550EX 是一款多用途高密度等离子刻蚀系统，特别适用于大学及政府机构等测试与研发设施。
特点
- 配备低压、低电子温度且高密度的等离子源。
- 支持从离子刻蚀到自由基刻蚀的广泛工艺控制。
- 通过优化磁场可控制等离子体密度与均匀性。
- 结构设计简洁，维护方便。
应用
- 超高频器件、光电器件（LED、LD）
- 下一代非易失性存储器
- 生物芯片与微流控器件
- 光子晶体
- 传感器、MEMS（微机电系统）
技术参数
| 项目 | 规格 |
| 系统配置 | 具备锁载功能的研发／原型系统 |
| 基板尺寸 | 最大至 150 mm |
| 运行压力 (Pa) | 0.07 ~ 6.7 |
| 基板内／基板间表面均匀性 | 最大 ±3% |
| 基板温度控制 | Electrostatic chuck(静电卡盘) |
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