HỆ THỐNG ETCHING PLASMA MẬT ĐỘ CAO R&D NE-550EX
NE550EX là hệ thống khắc plasma mật độ cao đa năng, đặc biệt cho các cơ sở thử nghiệm như trường đại học và cơ quan chính phủ.
đặc điểm
- Trang bị nguồn plasma áp suất thấp, nhiệt độ điện tử thấp và mật độ cao.
- Hỗ trợ nhiều phạm vi kiểm soát quy trình từ khắc ion đến khắc triệt để.
- Mật độ và tính đồng nhất của plasma có thể được kiểm soát bằng cách tối ưu hóa từ trường.
- Cấu hình đơn giản giúp bảo trì dễ dàng.
ứng dụng
- Thiết bị tần số siêu cao, thiết bị quang học (đèn LED, LD)
- Bộ nhớ ổn định thế hệ tiếp theo
- Phi thuyền sinh học và thiết bị vi lỏng
- Tinh thể quang tử
- Cảm biến, MEMS (hệ thống cơ điện vi mô)
bảng tiêu chuẩn
| Item | Specification |
| System configuration | R&D/prototype system with Load Lock function |
| Substrate size | Up to 150 mm |
| Operating pressure (Pa) | 0.07 to 6.7 |
| Uniformity within substrate/substrate to substrate surfaces | ±3% max. |
| Substrate temperature control | Electrostatic chuck |
关注我们
Zalo
ZALO 0988248567
Line Add
联系我们
ULVAC Vietnam Representative Office
29/11/100 Le Duc Tho Street, Ward 7, Go Vap District Ho Chi Minh City, Vietnam
5/5/42 Thanh Binh Street, Hai Duong Province, Vietnam