ULVAC Vietnam Representative Office
研究開発用高密度プラズマエッチングシステム NE-550EX
NE550EXは、高密度プラズマを採用した汎用エッチングシステムであり、大学や官公庁などの研究・試験機関向けに最適です。
特長
- 低圧・低電子温度・高密度プラズマ源を搭載しています。
- イオンアシストエッチングから高異方性エッチングまで、幅広いプロセス制御に対応します。
- 磁場条件を最適化することで、プラズマ密度および均一性を高精度に制御できます。
- シンプルな構成により、優れたメンテナンス性を実現しています。
用途
- 高周波デバイス、光デバイス（LED、LD）
- 次世代不揮発性メモリ
- バイオチップおよびマイクロ流体デバイス
- フォトニック結晶
- センサー、MEMS（微小電気機械システム）
仕様
| Item | Specification |
| System configuration | R&D/prototype system with Load Lock function |
| Substrate size | Up to 150 mm |
| Operating pressure (Pa) | 0.07 to 6.7 |
| Uniformity within substrate/substrate to substrate surfaces | ±3% max. |
| Substrate temperature control | Electrostatic chuck |
