ULVAC Vietnam Representative Office
NE-550EX 고밀도 플라즈마 R&D 에칭 시스템
NE-550EX는 대학 및 정부 연구기관과 같은 시험·연구 시설에 적합한 다목적 고밀도 플라즈마 에칭 시스템입니다.
특징
- 저압·저전자온·고밀도 플라즈마 소스를 탑재
- 이온 에칭부터 반응성 에칭까지 다양한 공정 제어 범위 지원
- 자기장 최적화를 통해 플라즈마 밀도 및 균일도 제어 가능
- 간단한 시스템 구성으로 유지보수가 용이
응용 분야
- 고주파 장치 및 광학 소자: LED, LD
- 차세대 비휘발성 메모리(NVM)
- 바이오칩 및 미세유체 소자
- 광자 결정(Photonic Crystal)
- 센서 및 MEMS(미세전자기계시스템)
사양
| Item | Specification |
| System configuration | R&D/prototype system with Load Lock function |
| Substrate size | Up to 150 mm |
| Operating pressure (Pa) | 0.07 to 6.7 |
| Uniformity within substrate/substrate to substrate surfaces | ±3% max. |
| Substrate temperature control | Electrostatic chuck |
