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碳纳米管生长实验系统 CN-CVD-400

CN-CVD-400 Hệ thống CVD
ULVAC 是全球首家开发出在基板上垂直且选择性生长碳纳米管技术的企业。通过采用微波等离子体 CVD 技术,ULVAC 成功实现了高纯度碳纳米管的量产。在包括电池和氢储存等诸多领域,都有望实现性能的飞跃提升。

特点

  • 可在基板上垂直生长碳纳米管
  • 可在玻璃基板的特定金属部位直接且选择性地生长碳纳米管
  • 生长过程中基板温度约为 600ºC

技术参数

 CN-CVD-400
最大基板尺寸直径 4 英寸
占地尺寸3.5m × 1.7m × 2.1m (不含维护空间)
交流电源200V ±10%
排气接管NW25KF
稀释气体Nitrogen >10 SLM
工艺气体接口VCR 6.35mm