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ULVAC Vietnam Representative Office

APIOS NE-950EX ドライエッチング装置

APIOS NE-950EX ETCHING
LED量産用ドライエッチング装置 NE-950EX

特長

  • 従来機比140%の高スループットを実現。
  • 6インチウェーハ:3枚同時処理対応。
  • 4インチウェーハ:7枚同時処理対応。
  • 3インチウェーハ:12枚同時処理対応。
  • 2インチウェーハ:最大29枚のバッチ処理に対応。
  • 化合物半導体市場で600台以上の導入実績を持つ、磁場付ICP(ISM※1)高密度プラズマ源を搭載。
  • 堆積膜をRFウィンドウから自動除去するスター電極(※2)を搭載。
  • 再付着(リデポジション)を抑制する設計により、高い稼働率・安定性・信頼性を実現。
  • GaN、サファイア、金属、ITO、SiC、AlN、ZnO、4元系化合物半導体など、多様な材料に対応したドライエッチングプロセスを提供。
  • 豊富なオプションを用意。

用途

  • LEDデバイス向けGaN、サファイア、金属、ITOなどのドライエッチング