ULVAC Vietnam Representative Office
R&D用NLDドライエッチングシステム NLD-570
ULVAC独自のNLD（Neutral Loop Discharge）プラズマ源を搭載したドライエッチングシステムです。
特長
- 低プロセス圧力、高密度プラズマ、低電子温度により、石英ガラス、Pyrex、LN、LTなどの材料に最適です。
- 優れた形状制御性と低い表面粗さを実現します。
- PRマスクを用いた深いSiO₂エッチングプロセスにおいて高い性能を発揮します。
- 石英：1μm/min以上、Pyrex：0.8μm/min以上の高いエッチングレートを実現します。
- 優れた均一性制御を実現します。
- オプションとしてカセット搬送チャンバーを選択可能です。
用途
- 光デバイス（光導波路、光増幅器、光スイッチなど）、マイクロレンズ、フォトニクス、μ-TAS（マイクロ・トータル・アナリシス・システム）など
