高エネルギーイオン注入装置 SOPHI-400

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SOPHI-400は、最大2400 keVの高エネルギーイオン注入に対応したクラスタ型イオン注入装置です

特長

クラスタ型
薄型ウェーハ対応
平行ビーム方式
最大2400 keVの高エネルギーイオン注入に対応
対応ウェーハサイズ：最大200 mm

用途

電力半導体デバイス、IGBTの製造プロセス

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