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클러스터형 PE-CVD 시스템 CME-200E/400
CME-200E/400은 절연막 또는 배리어층 형성을 위한 Si막 증착에 최적화된 양산용 PE-CVD 시스템입니다.
특징
- 고밀도 플라즈마 공정: 27.12 MHz 고주파 전원을 적용하여 고밀도 플라즈마 구현
- 고품질 박막 증착: SiH₄를 전구체로 사용하여 SiO₂, SiNₓ, SiON, a-Si 증착 가능하며, TEOS 기반 SiO₂ 증착 공정도 지원
- 챔버 세정: NF₃ + Ar 플라즈마를 이용한 챔버 세정 기능
- 저온 증착 대응: 유기 EL 증착을 위한 히터 옵션 지원
- 대면적 기판 대응:
- CME-200E: 최대 200 × 200 mm
- CME-400: 최대 300 × 400 mm
응용 분야
- 전자 소자
- LED, LD 및 고속 소자
- 유기 LED (OLED)
- 태양전지
- MEMS (미세전자기계시스템)
