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化学气相沉积系统

Dòng ULGLAZE Hệ thống CVD

ULGLAZE 系列

ULGLAZE 系列为扩展热等离子体 CVD(ETP-CVD)系统,用于利用单体与 O₂ 反应物在聚碳酸酯(PC)基材上沉积耐刮擦与耐磨涂层。

CMD Series Hệ thống CVD

CMD 系列

CMD系列是单片式CVD系统,使用硅烷(SiH4)或四乙氧基硅烷(TEOS)沉积氧化硅和氮化硅薄膜。高频(27.12 MHz)电源可实现高质量薄膜的沉积。

CME-200E-400 Hệ thống CVD

CME-200E/400 系列

CME-200E/400 是 PE-CVD 系列量产系统中最适用于沉积硅薄膜的机型,可用于作为绝缘层或阻挡层。

 
CC-200-400 Hệ thống CVD

CC-200/400 是一款结构紧凑、操作简便的系统,适用于研发和生产使用。

CN-CVD-400 Hệ thống CVD

CN-CVD-400 系列

ULVAC 首次在全球开发出在基板上垂直且选择性生长碳纳米管的技术。通过采用微波等离子体 CVD 技术,ULVAC 成功实现了高纯度碳纳米管的量产。在包括电池和氢气储存等诸多领域,都可期待性能的显著提升。

 
Gemini-200,300

Gemini-200,300 系列

Gemini 可在同一个传送核心上配置多种不同的工艺模块,通过尽可能采用相同的通用部件来减少备品备件,并且在各模块之间使用统一的操作面板以提升操作便利性。该设计进一步提高了先进电子器件制造过程的效率。