化学气相沉积系统

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ULGLAZE 系列

ULGLAZE 系列为扩展热等离子体 CVD（ETP-CVD）系统，用于利用单体与 O₂ 反应物在聚碳酸酯（PC）基材上沉积耐刮擦与耐磨涂层。

CMD系列是单片式CVD系统，使用硅烷（SiH4）或四乙氧基硅烷（TEOS）沉积氧化硅和氮化硅薄膜。高频（27.12 MHz）电源可实现高质量薄膜的沉积。

CME-200E/400 是 PE-CVD 系列量产系统中最适用于沉积硅薄膜的机型，可用于作为绝缘层或阻挡层。

CC-200/400 是一款结构紧凑、操作简便的系统，适用于研发和生产使用。

ULVAC 首次在全球开发出在基板上垂直且选择性生长碳纳米管的技术。通过采用微波等离子体 CVD 技术，ULVAC 成功实现了高纯度碳纳米管的量产。在包括电池和氢气储存等诸多领域，都可期待性能的显著提升。

Gemini 可在同一个传送核心上配置多种不同的工艺模块，通过尽可能采用相同的通用部件来减少备品备件，并且在各模块之间使用统一的操作面板以提升操作便利性。该设计进一步提高了先进电子器件制造过程的效率。