ULVAC Vietnam Representative Office
高密度・低加速イオン注入装置 SOPHI-30
SOPHI-30は、質量分離器を搭載しない高密度・低加速クラスタ型イオン注入装置であり、薄型ウェーハに対応しています。
特長
- クラスタ型
- 薄型ウェーハ対応
- 質量分離器非搭載
メリット
- 低加速・高密度・高スループットを実現したイオン注入装置
- 従来型イオン注入装置の約1/2の価格
- 従来型イオン注入装置の約1/3の設置面積（フットプリント）
用途
- 電力半導体デバイス、IGBTの製造プロセス向け
- 対応ウェーハサイズ：最大200 mm
