ULVAC Vietnam Representative Office
CME-200E/400 クラスタ型PE-CVDシステム
CME-200E/400は、絶縁膜およびバリア膜用途のSi膜形成に対応したPE-CVD量産システムにおいて、最適なモデルです。
特長
- 高周波電源（27.12MHz）による高密度プラズマプロセス。
- SiH₄を原料ガスとして使用し、SiO₂、SiNₓ、SiON、a-Siなどの高品質膜形成に対応。さらにTEOSによるSiO₂膜成膜にも対応。
- NF₃＋Arプラズマによるチャンバークリーニング機能を搭載。
- 低温での有機EL成膜に対応したヒーター機構を搭載。
- 基板サイズ：CME-200E 最大200×200mm、CME-400 最大300×400mmに対応。
用途
- 電子デバイス
- LED、LD、高速デバイス
- 有機EL（OLED）
- 太陽電池
- MEMS（微小電気機械システム）
