ULVAC Vietnam Representative Office
CN-CVD-400 カーボンナノチューブ開発用試験システム
ULVACは世界で初めて、基板上に垂直かつ選択的にカーボンナノチューブを成長させる技術を開発しました。マイクロ波プラズマCVD技術を用いることで、高純度カーボンナノチューブの量産化に成功しました。電池や水素貯蔵をはじめとする幅広い分野において、大幅な性能向上が期待されています。
特長
- 基板上にカーボンナノチューブを垂直成長させることが可能。
- ガラス基板上の特定の金属領域のみに、カーボンナノチューブを直接かつ選択的に成長させることが可能。
- 成長時の基板温度：約600℃。
仕様
| CN-CVD-400 | ||
| Maximum substrate size | 4 inches in diameter | |
| Footprint | 3.5m × 1.7m × 2.1m (not including maintenance space) | |
| AC power supply | 200V ±10% | |
| Duct tie-in | NW25KF | |
| Attenuating gas | Nitrogen >10 SLM | |
| Process gas tie-in | VCR 6.35mm | |
