ULVAC Vietnam Representative Office
中電流イオン注入装置 SOPHI-200/260
SOPHI-200/260は、現行の中電流量産型イオン注入装置をベースに、装置メーカーとして培ってきた豊富な経験をもとに過剰仕様を見直した装置です。これにより、大幅なコストダウンを実現し、平行スキャン機能を備えながら、低価格での提供を可能にしました。
特長
- 5～8インチウェーハに対応
- コンパクト・軽量設計
- 優れた平行ビーム性能
- アライメント精度および金属汚染特性に優れる
- 超薄型ウェーハに対応
用途
- 半導体デバイスの製造
- パワー半導体などの超薄型ウェーハプロセス
- 研究開発（R&D）
