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로드락형 Plasma-CVD 시스템 CC-200/400
로드락형 Plasma-CVD 시스템 CC-200/400은 R&D 및 생산용으로 적합한 컴팩트하고 사용하기 쉬운 시스템입니다.
특징
- 27.12 MHz 고주파 기반 고밀도 플라즈마 공정
- SiH₄ 기반 증착: SiO₂, SiNₓ, SiON, a-Si 증착 지원
- TEOS 기반 SiO₂ 증착 지원
- CF₄ + O₂ 플라즈마를 이용한 챔버 세정 지원
- 저온 유기 EL 증착용 히터 옵션 지원
- 다양한 기판 크기 대응 가능
- 간접 순차 처리: C 시리즈의 진공 카세트와 연계 가능
- Sputter: CS-200
- Evaporation: CV-200
응용 분야
- 전력 소자
- LED, LD 및 고속 소자 관련 화합물 반도체
- R&D용 유기 EL 시스템
- R&D용 태양전지 시스템
- MEMS (미세전자기계시스템)
