HỆ THỐNG PLASMA-CVD LOẠI KHÓA TẢI CC-200/400
Hệ thống Plasma-CVD loại khóa tải CC-200/400 là một hệ thống nhỏ gọn và dễ sử dụng để sử dụng và sản xuất R&D.
ĐẶC ĐIỂM
- Quy trình plasma mật độ cao trên 27,12MHz
- Hỗ trợ lắng đọng SiH4 (SiO2, SiNx, SiON, a-Si) và TEOS (SiO2).
- Hỗ trợ làm sạch buồng bằng plasma CF4 + O2.
- Hỗ trợ bộ gia nhiệt để lắng đọng EL hữu cơ ở nhiệt độ thấp.
- Hỗ trợ các kích thước chất nền khác nhau.
- Xử lý tuần tự gián tiếp hỗ trợ hộp chân không trong dòng C (Sputter: CS-200, Bay hơi: CV-200).
ỨNG DỤNG
- Thiết bị nguồn
- Các thiết bị liên quan đến hợp chất của LED, LD và các thiết bị tốc độ cao
- Hệ thống EL hữu cơ để sử dụng cho R & D
- Hệ thống pin năng lượng mặt trời để sử dụng cho R&D
- MEMS
Follow us
Zalo
Line Add
Contact Us
ULVAC Vietnam Representative Office
29/11/100 Le Duc Tho Street, Ward 7, Go Vap District Ho Chi Minh City, Vietnam