ULVAC Vietnam Representative Office
CC-200/400 ロードロック型プラズマCVDシステム
CC-200/400は、研究開発（R&D）用途および少量生産向けに、コンパクトで操作性に優れたロードロック型プラズマCVDシステムです。
特長
- 27.12MHz高周波電源による高密度プラズマプロセス。
- SiH₄（SiO₂、SiNₓ、SiON、a-Si）およびTEOS（SiO₂）による成膜に対応。
- CF₄＋O₂プラズマによるチャンバークリーニングに対応。
- 低温有機EL成膜用ヒーター機構に対応。
- 各種基板サイズに対応可能。
- Cライン用真空搬送ボックスを介した間接連続処理に対応（スパッタ：CS-200、蒸着：CV-200）。
用途
- パワーデバイス
- LED、LDおよび高速デバイスなどの化合物半導体関連デバイス
- R&D向け有機ELシステム
- R&D向け太陽電池システム
- MEMS（微小電気機械システム）
