HỆ THỐNG THỬ NGHIÊM PHÁT TRIỂN ỐNG NANO CARBON CN-CVD-400
Lần đầu tiên trên thế giới, ULVAC đã phát triển kỹ thuật phát triển ống nano carbon theo chiều dọc và chọn lọc trên chất nền. Bằng cách sử dụng kỹ thuật CVD plasma vi sóng, ULVAC đã thành công trong việc sản xuất hàng loạt ống nano với độ tinh khiết cao. Cải thiện mạnh mẽ hiệu suất có thể được mong đợi trong nhiều lĩnh vực, bao gồm cả tế bào và lưu trữ hydro.
đặc điểm
- Capability of growing nanotube vertically on a substrate
- Capability of growing nanotube directly and selectively only in a specific metal portion on a glass substrate
- Substrate temperature during growth is approx. 600ºC.
bảng tiêu chuẩn
| CN-CVD-400 | ||
| Maximum substrate size | 4 inches in diameter | |
| Footprint | 3.5m × 1.7m × 2.1m (not including maintenance space) | |
| AC power supply | 200V ±10% | |
| Duct tie-in | NW25KF | |
| Attenuating gas | Nitrogen >10 SLM | |
| Process gas tie-in | VCR 6.35mm | |
Follow us
Zalo
Line Add
Contact Us
ULVAC Vietnam Representative Office
29/11/100 Le Duc Tho Street, Ward 7, Go Vap District Ho Chi Minh City, Vietnam
5/5/42 Thanh Binh Street, Hai Duong Province, Vietnam