CÔNG CỤ VẬT LIỆU ETCHING VẬT KHÔNG ULHITETM NE-7800H
ULHITETM NE-7800H là hệ thốngEtching kiểu cụm của plasma áp suất thấp và mật độ cao cho vật liệu NVM (vật liệu khắc khó, được sử dụng cho FeRAM, MRAM, ReRAM, CBRAM, PCRAM, v.v.), điện môi, kim loại quý và Lớp từ tính.
Đặc điểm
- Điện cực đế nhiệt độ cao (lên đến 450ºC).
- Cơ chế giảm lắng đọng màng điện môi trên cửa sổ đầu vào RF
- Tỷ lệ ăn mòn cao
- Tính ổn định vượt trội của quá trình khắc màng Pt/Ir/từ tính
- Nguồn plasma mật độ cao ISMTM (Super Magnetron cảm ứng).
ứng dụng
- FeRAM, MRAM, ReRAM, CBRAM, PcRAM, etc.
bảng tiêu chuẩn
| Item | Specification |
| System configuration | Cassette chamber/auto-loader |
| Transfer chamber | |
| Etching chamber | |
| Preheating chamber (option) | |
| Ashing chamber (option) | |
| Supported substrate sizes | 6/8 inches |
| Film types | Ferroelectric/high-k materials, magnetic materials, electrode materials, other |
| Uniformity within substrate surface | ±5% max. |
| Plasma source | ISM (ICP with magnetic field) |
| Substarate electrode temperature | Up to 400ºC±5ºC |
| Anti-deposition measures | Faraday shield mechanism, Top plate heating mechanism, Deposition shield heating mechanism, etc |
| Process recipe editing | Multi-step type |
Follow us
Zalo
Line Add
Contact Us
ULVAC Vietnam Representative Office
29/11/100 Le Duc Tho Street, Ward 7, Go Vap District Ho Chi Minh City, Vietnam
5/5/42 Thanh Binh Street, Hai Duong Province, Vietnam