HỆ THỐNG ETCHING KHÔ CHO THIẾT BỊ OPTO, MEMS NLD-5700

Home / Sản phẩm / Thiết bị chân không / HỆ THỐNG ETCHING / HỆ THỐNG ETCHING KHÔ CHO THIẾT BỊ OPTO, MEMS NLD-5700

Hệ thống Etching khô kiểu sản xuất với Nguồn Plasma NLD (Neutral Loop Discharge) nguồn gốc ULVAC.

đặc điểm

Buồng khắc loại ICP, CCP hoặc buồng tro cũng có thể được chọn làm buồng thứ hai.
Áp suất quy trình thấp, plasma mật độ cao, nhiệt độ điện tử thấp hoàn hảo cho thủy tinh thạch anh, Pyrex, LN, LT, v.v.
Kiểm soát biên dạng tốt và độ nhám bề mặt.
Hiệu suất tốt của quá trình ăn mòn SiO2 sâu với PR.
Tốc độ khắc cao của Thạch anh> 1μm / phút, Pyrex> 0,8 μm / phút.
Kiểm soát tính đồng nhất tuyệt vời.

ứng dụng

Thiết bị quang học (Bộ dẫn sóng, bộ khuếch đại, công tắc quang học, v.v.), Ống kính siêu nhỏ, Quang tử, μ-TAS, v.v.