刻蚀系统

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NE-550EX

NE550EX 是一款多用途高密度等离子刻蚀系统，特别适用于大学及政府机构等实验研发设施。

LED 大规模量产干式刻蚀设备 NE-950EX

适用于大批量生产的干式刻蚀系统，具有优异的性价比，并可提供多种设备配置选择。

采用 ULVAC 原创 NLD（中性环放电）等离子源的干式刻蚀系统。

采用 ULVAC 原创 NLD（中性环放电）等离子源的量产型干式刻蚀系统。

用于先进半导体中窄而深接触结构的本征氧化膜去除的化学干式清洗批量式设备。

ULHITE^TM NE-7800H 是一款集群式低压高密度等离子刻蚀系统，适用于 NVM 材料（难刻蚀材料，用于 FeRAM、MRAM、ReRAM、CBRAM、PCRAM 等）、介电材料、贵金属和磁性层。

Gemini 可在同一传送核心上配置多种不同的工艺模块，通过尽可能采用相同的通用部件来减少备品备件，同时在不同模块之间使用相同的操作面板以提升易用性。
这进一步提高了先进电子制造工艺的生产效率。