CVD装置

ULGLAZEシリーズ

ULGLAZEシリーズは、モノマー試薬とO₂を使用し、ポリカーボネート上に耐擦傷性・耐摩耗性コーティング膜を形成する拡張熱プラズマCVD（ETP-CVD）システムです。

CMDシリーズは、SiH₄またはTEOSを用いてシリコン酸化膜およびシリコン窒化膜を成膜する枚葉式CVDシステムです。高周波電源（27.12MHz）により、高品質な薄膜形成を実現します。

CME-200E / 400は、絶縁膜やバリア膜形成用途向けのSi膜を成膜するPE-CVD量産システムにおいて、最適なモデルです。

CC-200/400は、R&Dおよび量産用途に対応したコンパクトで使いやすいシステムです

ULVACは世界で初めて、基板上に垂直配向かつ選択的にカーボンナノチューブを成長させる技術を開発しました。マイクロ波プラズマCVD技術を用いることで、高純度カーボンナノチューブの量産化に成功しました。電池や水素貯蔵をはじめとする幅広い分野において、大幅な性能向上が期待されています。

Geminiは、同一の搬送コア上に複数の異なるプロセスモジュールを搭載したシステムです。可能な限り共通部品を採用することで交換部品を削減し、さらに各モジュール間で共通の操作パネルを使用することにより、操作性を向上させています。これにより、先端電子デバイス製造プロセスのさらなる効率化を実現します。