Hệ thống Etching

Home / Sản phẩm / Thiết bị chân không / HỆ THỐNG ETCHING

NE-550EX

NE550EX là hệ thống Etching plasma mật độ cao đa năng, đặc biệt cho các cơ sở thử nghiệm như trường đại học và cơ quan chính phủ.

APIOS NE-950EX

Công cụ Etching khô sản xuất hàng loạt LED NE-950EX

NE-5700/NE-7800

Hệ thống Etching khô để sản xuất khối lượng lớn với hiệu suất chi phí tốt và nhiều lựa chọn cấu hình công cụ.

NLD-570

Hệ thống Etching khô với Nguồn plasma NLD (Neutral Loop Discharge) gốc ULVAC.

NLD-5700

Hệ thống Etching khô kiểu sản xuất với Nguồn Plasma NLD (Neutral Loop Discharge) gốc ULVAC.

RISETM-300

Loại thiết bị vệ sinh khô bằng hóa chất theo lô để loại bỏ oxit tự do ở các dạng tiếp xúc Hẹp và Sâu của chất bán dẫn tiên tiến.

ULHITETMNE-7800H

ULHITETM NE-7800H là hệ thống Etching kiểu cụm của plasma áp suất thấp và mật độ cao cho vật liệu NVM (vật liệu khắc khó, được sử dụng cho FeRAM, MRAM, ReRAM, CBRAM, PCRAM, v.v.), điện môi, kim loại quý và Lớp từ tính.

Gemini-200,300

Gemini là trang bị nhiều mô-đun quy trình khác nhau trên cùng một lõi chuyển, giúp giảm thiểu phụ tùng thay thế bằng cách sử dụng các bộ phận chung giống nhau nhiều nhất có thể cũng như cải thiện khả năng sử dụng với cùng một bảng điều khiển giữa các mô-đun khác nhau này. Điều này cải thiện hiệu quả hơn nữa cho quá trình sản xuất thiết bị điện tử tiên tiến.