Home / Sản phẩm / Thiết bị chân không / HỆ THỐNG ETCHING
NE550EX là hệ thống Etching plasma mật độ cao đa năng, đặc biệt cho các cơ sở thử nghiệm như trường đại học và cơ quan chính phủ.
Hệ thống Etching khô để sản xuất khối lượng lớn với hiệu suất chi phí tốt và nhiều lựa chọn cấu hình công cụ.
Hệ thống Etching khô kiểu sản xuất với Nguồn Plasma NLD (Neutral Loop Discharge) gốc ULVAC.
Loại thiết bị vệ sinh khô bằng hóa chất theo lô để loại bỏ oxit tự do ở các dạng tiếp xúc Hẹp và Sâu của chất bán dẫn tiên tiến.
ULHITETM NE-7800H là hệ thống Etching kiểu cụm của plasma áp suất thấp và mật độ cao cho vật liệu NVM (vật liệu khắc khó, được sử dụng cho FeRAM, MRAM, ReRAM, CBRAM, PCRAM, v.v.), điện môi, kim loại quý và Lớp từ tính.
Gemini là trang bị nhiều mô-đun quy trình khác nhau trên cùng một lõi chuyển, giúp giảm thiểu phụ tùng thay thế bằng cách sử dụng các bộ phận chung giống nhau nhiều nhất có thể cũng như cải thiện khả năng sử dụng với cùng một bảng điều khiển giữa các mô-đun khác nhau này. Điều này cải thiện hiệu quả hơn nữa cho quá trình sản xuất thiết bị điện tử tiên tiến.
29/11/100 Le Duc Tho Street, Ward 7, Go Vap District Ho Chi Minh City, Vietnam
5/5/42 Thanh Binh Street, Hai Duong Province, Vietnam